양말에 USB 숨겨 정보 빼내
부사장 1년형, 나머지는 집유

삼성전자와 SK하이닉스의 반도체 기술을 중국 업체에 무단 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 협력사 관계자들이 무더기로 유죄를 선고받았다.

서울중앙지법 형사25-3부(부장 지귀연·박정길·박정제)는 13일 산업기술보호법 위반 등의 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력 업체 부사장 A(59)씨에게 징역 1년을 선고했다. 함께 재판에 넘겨진 직원 7명에게는 징역 8개월에서 1년 6개월에 집행유예(2년)와 벌금형을 내렸다. 해당 법인에는 벌금 4억원을 선고했다.

이들은 SK하이닉스와의 협력 관계에서 파악한 반도체 제조기술(HKMG)과 세정 레시피 등의 국가 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년 8월~2020년 6월 중국 반도체 업체로 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다. HKMG는 D램 반도체 속도를 높이면서도 소모 전력을 줄이는 신기술로 평가받는다.

또 이들은 삼성전자 자회사인 세메스의 전직 직원으로부터 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정 장비 도면 등을 활용해 중국 수출용 반도체 세정 장비를 개발한 혐의도 받았다. 초임계 세정 장비는 세메스가 세계 최초로 개발한 반도체 세정용 화학물질이다. 재판부는 “반도체 세정 비율 등을 담은 정보인 ‘레시피’를 해외로 유출한 범행은 공정 경쟁 질서를 위협하는 것으로 죄질이 매우 좋지 않다”고 지적했다. 이어 “(반도체 세정 레시피는) SK하이닉스와 A사의 ‘공동 개발’ 결과물이 아니라 하이닉스 기술을 구현한 것이며, 레시피를 평소 몰래 수집하거나 직원이 양말에 USB를 몰래 넣어 정보를 빼내는 방식으로 취득해 국외로 유출한 혐의는 인적 네트워크 등을 이용한 부정한 정보 취득”이라고 설명했다.

특히 A씨에게 실형을 내리면서 “세메스 정보 사용에 있어 최고책임자(A씨)의 지시와 주도 없이는 그 같은 개발이 이뤄질 수 없다고 판단했다”며 “세메스 정보를 사용해 초임계 세정 장비 개발 범행에 가담한 것이 충분히 인정된다”고 밝혔다. 다만 재판부는 공동 개발 결과물인 세정 장비의 사양 정보를 알려 준 것은 계약서상 대외 발표만 금지한다는 조항이 있기에 무죄로 봤다.